产品名称：真空气氛炉GWDL-2100VAF
型号：真空气氛炉GWDL-2100VAF
规格：GWDL-2100VAF
备注：真空气氛炉GWDL-2100VAF
技术参数 ：
GWDL-VAF 系列 2100 度真空气氛炉如图所示 ,集温度控制系统、真空炉膛、真空泵、气路、压力保护、气体流量控制、正负压显示为一体，水冷机组与炉体为分体。炉衬使用多层金属反射屏制作而成。
采用钨片为加热元件；是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业对陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、金属、非金属及其它化和物材料进行烧结﹑融化﹑分析、生产而研制的专用设备。
控制面板配有触摸屏加 PLC 智能控制；智能温度调节，控制电源、主加热工作，电压、电流、水泵，真空泵，气体流量，正负压压力，电接点压力表，阀门，以便随时观察本系统的工作状态， 本产品采用可靠的集成化电路，工作环境好，抗干扰，最高温度时炉体外壳温度≤40℃大大提高了工作环境，微电脑程序控制，可编程序曲线，全自动升温/降温，运行中可以修改控温参数及程序， 灵活方便、操作简单。
控温精度：±1℃无超调 恒温精度：±1℃。升温速度快，最快升温速率≤20/min。
炉膛材料全部采用真空成型高纯氧化铝聚轻材料，使用温度高，蓄热量小，耐急热急冷、保温性能好。结构合理，内外双层炉套，风冷散热，可大大缩短试验周期。
